EUV PR (Photoresist, 포토레지스트)을 국산화한 동진쎄미켐

오늘은 주식회사 소식 중 EUV PR (Photoresist, 포토레지스트)을 국산화한 동진쎄미켐에 관한 간략한 내용입니다.

참조만 부탁드립니다.



동진쎄미켐은 1973년 법입설립되어,

반도체 및 TFT-LCD 노광공정에 사용되는 포토레지스트 관련 전자재료 사업과

산업용 기초소재인 발포제 사업을 하고 있으며,

반도체, 평판디스플레이용 감광액과 박리액, 세척액, 식각액, 태양전지용 전극 Paste 등

전자재료를 제조업체에 납품하는 회사입니다. 출처 – NAVER 금융




2021년 12월 19일자 전자신문 기사에 따르면,

동진쎄미켐이 반도체 초미세공정 필수 소재인 극자외선(EUV) 포토레지스트(PR) 개발에 성공했다고 합니다.



EUV PR은 지난 2019년 일본 수출 규제 3대 품목 가운데 하나였는데,

그 당시에, 큰 어려움을 겪은 것으로 알고 있습니다.

대부분을 해외로부터 수입 의존해 온 제품을 국내 기업에서 국산화했다고 합니다.

출처 - 동진쎄미켐 홈페이지

동진쎄미켐은 최근 삼성전자 EUV PR 신뢰성 시험(퀄)을 통과한 것으로 19일 알려졌다.



이 사안에 정통한 업계 관계자는 “동진쎄미켐이 경기 화성 공장에서 EUV PR를 개발했고,

이를 삼성전자 화성 EUV 라인에서 테스트해 최종 퀄을 받았다”면서

“기술 수준이 높은 EUV PR를 양사 협력으로 신속히 개발할 수 있었다”라고 밝혔다.



감광액으로도 불리는 PR는 반도체 노광 공정 핵심 소재다.

웨이퍼 위에 도포돼 반도체 노광장비로 빛을 쏘면 화학 반응을 일으켜 물성이 변한다.

현상액으로 필요한 부분만 남기고 PR를 씻어내면 미세 회로가 그려진다.



국내에서 불화크립톤(KrF)과 불화아르곤(ArF) 공정용 PR는 양산하고 있었지만

보다 미세한 회로를 그릴 수 있는 EUV용 PR는 전무했다.

그만큼 개발이 어려웠기 때문이다. 국내에서 사용하는 EUV PR는 대부분 일본에서 수입했다.

동진쎄미켐은 2019년 일본 수출 규제 후 EUV PR 개발에 박차를 가했다.



기존 불화아르곤 노광기 등 자체 인프라와 벨기에 반도체 연구소

아이멕(IMEC) EUV 장비 등을 활용, EUV PR 국산화에 나섰다.

올해 초 EUV PR 전문인력을 보강하며 기술 개발에 속도를 냈다.



여기에 삼성전자가 EUV 테스트 환경을 적극 지원해 현장에서

활용할 수 있는 수준의 품질 고도화를 이뤄냈다.

업계 관계자는 “2년 만에 EUV PR 개발에 성공한다는 자체가 상당히 어려운 일”이라며

“(EUV PR 퀄 통과는) 삼성전자 협력이 뒷받침된 성과”라고 평가했다.



삼성전자가 당장 동진쎄미켐 EUV PR를 반도체 생산 라인에 투입할지는 미지수다.

통상적으로 퀄을 통과하면 양산라인에 투입된다.

이 때문에 일각에서는 이르면 내년 상반기 공급 가능성을 점치고 있다.

EUV PR 퀄 통과에 대해 삼성전자와 동진쎄미켐 측은 말을 아꼈다.



삼성전자 관계자는 “협력사와의 퀄 통과는 확인해줄 수 없다”면서

“반도체 소재·부품·장비(소부장) 다변화를 위해 노력하고 있다”라고 전했다.


출처 – 전자신문

 

 

중소기업인 동진쎄미켐이 반도체 초미세공정에 필수 소재인 극자외선(EUV) 포토레지스트(PR) 개발에 성공했다.

감광액으로도 불리는 EUV PR는 반도체 미세공정에서 회로를 그릴 때 사용하는 핵심 소재다.



일본 정부는 2019년 7월 초,

고순도 불화수소와

감광액(PR, 포토레지스트),

불화폴리이미드(플루오린폴리이미드) 한국 수출을 제한했다.




삼성전자는 반도체 공급 부족으로 양산에만 역량을 집중해야 하는 반도체 제조사다.

EUV 공정 라인을 협력사에 제공하는 것은 쉬운 일이 아니지만

반도체 소재 다변화를 위한 강력한 의지가 있었기 때문에

동진쎄미켐에 EUV 테스트 환경을 제공할 수 있었다.

동진쎄미켐 회사 관계자는 “2년 만에 EUV PR 개발에 성공한다는 자체가

상당히 어려운 일이다”라며 “이는 삼성전자 협력이 뒷받침된 성과”라고 평가했다.




동진쎄미켐은 정부가 출연한 연구원과도 손잡았다.

한국전자통신연구원(ETRI)은 SKC하이테크앤마케팅·동진쎄미켐과 함께

100도 이하 공정온도에서도 픽셀 크기를 3μm 이하로 만들 수 있는 포토레지스트 기술을 개발하고

유기발광다이오드(OLED) 마이크로디스플레이에 적용했다.

국내 기업과 독점 공급 계약도 맺었다.



동진쎄미켐과 삼성전자가 협력해 개발한 반도체 극자외선(EUV) 노광 공정용 포토레지스트(PR)는

열악한 국내 EUV 개발 환경에 새로운 이정표를 세웠다.

공급 기업과 수요 기업 간 협업으로 반도체 공정 핵심 소재 국산화·다변화에 성공한 사례이기 때문이다.

따라서 이번 EUV 포토레지스트 개발 성공은

가장 모범적인 대·중소기업 상생협력의 결과로 이룬 쾌거로 국가적으로도 매우 뜻 깊은 일이다.




그동안 정부는 일본 수출규제 이후 소재·부품·장비의 국산화를 적극 추진해 왔다.

올해에도 6천억원 이상 추가 펀드를 조성해 소재·부품·장비 기업을 지원한다.

지난해부터 조성한 정책펀드 규모는 1조원이 넘는다.

그동안 많은 성과도 이루었다.



일본의 수출규제가 오히려 국산화 의지를 불태웠고 상당부분 국산화와 수입다변화도 이루었다.

그러나 소재·부품·장비의 국산화와 자립의 길은 아직도 멀고도 험난하다.

이번 사례를 계기로 정부와 업계는 소재·부품·장비의 국산화와 자립에 힘을 모아야 한다.

소재·부품·장비의 국산화와 자립을 위해 대·중소기업 상생협력 강화방안을 모색해야 한다.



또한 소재·부품·장비의 공급난을 극복하는 데는 대기업의 역량을 중소기업과 나눠

국내 반도체 생태계를 키우는 것이 중요하다.

소재·부품·장비의 수요기업은 주로 대기업이고 공급은 주로 중소기업이 하기 때문이다.

또한 정부출연연구원과의 공동 연구할 수 있는 환경조성과 지원도 매우 중요하다. 



출처 - 천지일보

상기 내용은 전자신문의 내용을 기반으로, NAVER 금융, 동진쎄미켐 홈페이지, 천지일보에서 추가로 내용을 발췌했습니다.